国林科技：薄膜堆积工艺用臭氧气体发生器验证获得重要打破已小批量出货中

来源：乐鱼官网进入    发布时间：2025-12-08 15:35:13

  同花顺300033）金融研究中心12月05日讯，有投资者向国林科技300786）发问， 现在公司在存储芯片专用薄膜堆积与整理洗刷设备上获得了哪些发展？

  公司答复表明，敬重的投资者，您好。国林半导体公司经过自主研制技能获得了阶段性效果:半导体湿法清洗工艺用臭氧水以及其他配套功用水设备现在对接客户现已悉数验证经过，已悉数量产继续出货中；薄膜堆积工艺用臭氧气体发生器验证获得了重要打破，现在已小批量出货中。感谢您的重视。